Китайская компания Prinano (PuLin Technology) совершила значительный прорыв в области нанотехнологий, поставив свой первый полностью разработанный наноимпринтный литограф модели PL-SR для производства чипов. Этот уникальный аппарат предназначен для использования в реальных производственных линиях, и его внедрение знаменует собой важный шаг на пути к самодостаточности в области микроэлектроники в Китае. Prinano стала второй компанией в мире после японской Canon, которая смогла реализовать такой передовой технологический продукт и поставить его клиентам для серийного производства.
Система PL-SR способна поддерживать нанесение линий шириной менее десяти нанометров, что позволяет создавать схемы с весьма высокой точностью. Для сравнения, упомянутая ранее Canon FPA-1200NZ2C способна формировать изображения на пластинах с минимальной шириной линий в 14 нм. В то время как Canon ориентирована на 14-нанометровый техпроцесс, Prinano заявляет о потенциале производства чипов 5 нм, что делает систему особенно привлекательной для изготовления передовых полупроводниковых устройств. Однако важно отметить, что в документации подчеркивается, что это не означает системой можно выпускать все виды 5-нанометровых чипов — речь скорее идет о возможностях технологического расширения.
Одним из значимых преимуществ нанопечатной литографии является отсутствие необходимости использования экстремального ультрафиолета (EUV), который применяется в современных передовых литографических машинах и требует огромных затрат электроэнергии и ресурсов. В отличие от EUV-литографии, наноимпринтная технология отличается меньшими эксплуатационными расходами и более низким энергопотреблением, что делает ее привлекательной для производства различных типов памяти, таких как флэш-память, а также других компонентов, где высокая точность линий важна, но не так критична как при создании центральных процессоров или графических процессоров.
Производственный процесс системы Prinano предполагает использование жесткой кварцевой формы, на которой выгравированы наноструктуры, а затем эта форма прижимается к тонкому слою резиста, нанесенному на пластину. Особенность заключается в том, что система использует струйный модуль, который динамически измеряет объем капель для поддержания постоянной толщины резиста, менее десяти нанометров. Такая точность обеспечивает минимальные отклонения и позволяет получать высококачественные изображения. Расчетное время обработки одной пластинки диаметром 300 мм делает систему актуальной для серийного производства.
Несмотря на свои преимущества, нанопечатная литография имеет и свои ограничения. Она значительно медленнее по сравнению с традиционной оптической литографией и хуже подходит для изготовления сложных логических схем с плотными и детализированными шаблонами, например, для полноценных CPU или GPU. Поэтому Prinano в большей степени ориентирована на производство устройств памяти и других компонентов, для которых важна высокая точность, но не требуется такова скорость и сложность шаблонов, как в массивах центральных процессоров.
Этот технологический успех подчеркивает растущий потенциал Китая в области передовых технологий микроэлектроники. Создание собственной наноимпринтной системы позволяет значительно снизить зависимость от иностранных разработок и повысить конкурентоспособность национальной промышленности. В будущем такие системы могут стать частью внутренней производственной цепочки, обеспечивая производство высокоточных устройств с меньшими затратами и более высокой автономностью. Таким образом, Prinano делает важный вклад в развитие отечественной технологической базы и открывает новые горизонты для китайской микроэлектроники, что особенно актуально в условиях глобальных политических и экономических вызовов.
